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A deposição de magnetrão de titânio de alta pureza (Ti) é um processo de deposição física de vapor precisão que utiliza tecnologia de deposição de magnetrão para bombardear alvos de titânio de alta pureza com ións de argão em um ambiente de vácuo, fazendo com que os átomos de titânio de espetagem e deposição na superfície do substrato para formar um filme fino uniforme e denso. A esputação de magnetrão tem as vantagens de velocidade de revestimento controlável, alta pureza de filmes, forte adesão e boa uniformidade. Pode obter filmes finos de titânio com espessura precisa e controlável em grandes áreas ou substratos irregulares. Ao ajustar parâmetros de processo como potência de espulsão, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tensão de viés, o tamanho do grão, estrutura de fase cristal, estresse interno e morfologia da superfície da camada de filme de titânio podem ser controlados, otimizando assim as propriedades mecânicas, químicas e ópticas da camada de filme.
Em princípio, o titânio, como um metal de transição com alta atividade química, pode gerar espontaneamente uma camada densa de passivação de óxido de titânio em seu filme fino em ambientes contendo ar ou oxigênio, endosionando o revestimento com excelente resistência à corrosião e resistência à oxidação, que pode efetivamente proteger o substrato da erosão ambiental. O filme de titânio tem boa biocompatibilidade e não é propenso a reações de rejeição após implantação no corpo humano, tornando-o um material ideal para modificação da superfície de dispositivos médicos e implantes. Ao introduzir fontes de nitrogênio ou de carbono através de tecnologia de sputtering reativa, revestimentos cerâmicos duros como nitrito de titânio (TiN) ou nitrito de carbono de titânio (TiCN) podem ser depositados na superfície do substrato, melhorando consideravelmente a duração da superfície e a resistência ao uso. No campo da óptica, os filmes finos de titânio e óxido de titânio têm índices refrativos específicos e características espectrais, que podem ser usados para preparar camadas anti-reflexivas, filtros e filmes funcionais fotocatalíticos.
A vantagem essencial deste produto é que o processo de esputação de magnetróns pode preparar filmes de titânio de alta puridade, alta densidade e forte adesão, atendendo aos exigências rigorosas de dispositivos médicos, máquinas de precisão e dispositivos ópticos; Os parâmetros do processo podem ser ajustados, e a espessura do filme, a microestrutura e as características funcionais podem ser otimizadas conforme necessário para alcançar personalização multiobjetiva como resistência à corrosão, resistência ao uso, biocompatibilidade ou funcionalidade óptica; O substrato tem ampla adaptabilidade e pode ser colocado em várias superfícies de substratos como metais, cerâmica, vidro, wafers de sílico e filmes flexíveis. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode personalizar a espessura do filme de titânio, tipo de substrato e soluções de padronização da área de revestimento de acordo com as necessidades do cliente, fornecendo serviços de processamento de revestimento de magnetrona de precisão para filmes de titânio de alta puridade em campos como dispositivos médicos, máquinas de precisão, dispositivos ópticos e fabricação de semicondutores.
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Depósito de magnetro de titânio de alta puridade (Ti) é um método de depositação de filmes finos de titânio de alta puridade em superfícies de substratos usando tecnologia de magnetro de espulsão. A tecnologia de sputtering Magnetron é uma técnica avançada de depositação de filmes finos que tem sido amplamente utilizada na produção industrial devido a sua alta taxa de depositação, boa qualidade de filmes e forte flexibilidade de processos. Titânio (Ti), como importante material de metal ligeiro, tem características de baixa densidade, alta força e boa resistência à corrosão. Tem uma ampla gama de aplicações no aeroespaço, equipamento médico, equipamento químico, dispositivos eletrônicos e outros campos.
O processo básico de sputtering de magnetrons para a cobertura de titânio de alta pureza inclui os seguintes passos:

Magnetron impulsionando bismuto de alta puridade
Magnetron sputtering deposition of high-purity cobalt Co
Depósito de magnetro impulsivo de vanádio V de alta puridade
Depósito de magnetro sputtering de crômio de alta puridade Cr
Depósito de magnetro de molibdênio Mo de alta puridade
Magnetron sputtering deposition of high purity nickel Ni
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