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Captura de magnetro
Depósito de magnetro impulsivo de titânio Ti de alta pureza
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Depósito de magnetro impulsivo de titânio Ti de alta pureza

A deposição de magnetrão de titânio de alta pureza (Ti) é um processo de deposição física de vapor precisão que utiliza tecnologia de deposição de magnetrão para bombardear alvos de titânio de alta pureza com ións de argão em um ambiente de vácuo, fazendo com que os átomos de titânio de espetagem e deposição na superfície do substrato para formar um filme fino uniforme e denso. A esputação de magnetrão tem as vantagens de velocidade de revestimento controlável, alta pureza de filmes, forte adesão e boa uniformidade. Pode obter filmes finos de titânio com espessura precisa e controlável em grandes áreas ou substratos irregulares. Ao ajustar parâmetros de processo como potência de espulsão, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tensão de viés, o tamanho do grão, estrutura de fase cristal, estresse interno e morfologia da superfície da camada de filme de titânio podem ser controlados, otimizando assim as propriedades mecânicas, químicas e ópticas da camada de filme.

Em princípio, o titânio, como um metal de transição com alta atividade química, pode gerar espontaneamente uma camada densa de passivação de óxido de titânio em seu filme fino em ambientes contendo ar ou oxigênio, endosionando o revestimento com excelente resistência à corrosião e resistência à oxidação, que pode efetivamente proteger o substrato da erosão ambiental. O filme de titânio tem boa biocompatibilidade e não é propenso a reações de rejeição após implantação no corpo humano, tornando-o um material ideal para modificação da superfície de dispositivos médicos e implantes. Ao introduzir fontes de nitrogênio ou de carbono através de tecnologia de sputtering reativa, revestimentos cerâmicos duros como nitrito de titânio (TiN) ou nitrito de carbono de titânio (TiCN) podem ser depositados na superfície do substrato, melhorando consideravelmente a duração da superfície e a resistência ao uso. No campo da óptica, os filmes finos de titânio e óxido de titânio têm índices refrativos específicos e características espectrais, que podem ser usados para preparar camadas anti-reflexivas, filtros e filmes funcionais fotocatalíticos.

A vantagem essencial deste produto é que o processo de esputação de magnetróns pode preparar filmes de titânio de alta puridade, alta densidade e forte adesão, atendendo aos exigências rigorosas de dispositivos médicos, máquinas de precisão e dispositivos ópticos; Os parâmetros do processo podem ser ajustados, e a espessura do filme, a microestrutura e as características funcionais podem ser otimizadas conforme necessário para alcançar personalização multiobjetiva como resistência à corrosão, resistência ao uso, biocompatibilidade ou funcionalidade óptica; O substrato tem ampla adaptabilidade e pode ser colocado em várias superfícies de substratos como metais, cerâmica, vidro, wafers de sílico e filmes flexíveis. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode personalizar a espessura do filme de titânio, tipo de substrato e soluções de padronização da área de revestimento de acordo com as necessidades do cliente, fornecendo serviços de processamento de revestimento de magnetrona de precisão para filmes de titânio de alta puridade em campos como dispositivos médicos, máquinas de precisão, dispositivos ópticos e fabricação de semicondutores.


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Depósito de magnetro de titânio de alta puridade (Ti) é um método de depositação de filmes finos de titânio de alta puridade em superfícies de substratos usando tecnologia de magnetro de espulsão. A tecnologia de sputtering Magnetron é uma técnica avançada de depositação de filmes finos que tem sido amplamente utilizada na produção industrial devido a sua alta taxa de depositação, boa qualidade de filmes e forte flexibilidade de processos. Titânio (Ti), como importante material de metal ligeiro, tem características de baixa densidade, alta força e boa resistência à corrosão. Tem uma ampla gama de aplicações no aeroespaço, equipamento médico, equipamento químico, dispositivos eletrônicos e outros campos.

O processo de magnetrona impulsionando para depositar titânio de alta puridade

O processo básico de sputtering de magnetrons para a cobertura de titânio de alta pureza inclui os seguintes passos:

  1. Preparação de material alvo: Seleccione material alvo de titânio de alta pureza, com um requisito de pureza de 99,95% ou mais.
  2. Criar um ambiente de vácuo: Estabelecer um ambiente de vácuo elevado na cavidade de um dispositivo de sputação de magnetrons, geralmente exigindo um grau de vácuo de 10 ^ -6 a 10 ^ -8 Torr.
  3. Introdução de gás sputtering: gás inerte (geralmente argão) é introduzido para gerar plasma ao redor do material alvo.
  4. Campo magnético de aplicação: Coloque um campo magnético perto da superfície do material alvo para aumentar a densidade plasmática e melhorar a eficiência de sputtering.
  5. Depósito de esputação: partículas cargadas no plasma colidem com a superfície de um alvo de titânio, causando que os átomos de titânio se separam e se depositem no substrato.
  6. Espessura do filme de controle: Ao ajustar parâmetros como tempo de espessura e densidade corrente, a espessura do filme pode ser controlada.

Características do filme fino de titânio de alta puridade

  1. Alta puridade: filmes de titânio com extremamente alta puridade podem ser obtidos através de tecnologia de espulsão de magnetróns.
  2. Uniformidade: O filme depositado tem boa uniformidade e densidade.
  3. Adesão forte: A adesão entre o filme e o substrato é boa.
  4. Controlabilidade forte: As propriedades do filme, como espessura e tamanho de grãos, podem ser exatamente controladas ajustando parâmetros de processo.

Aplicação de filme fino de titânio de alta puridade

  1. Aerospace: Usado para fabricar componentes ligeiros e de alta for ça, como componentes estruturais de aeronaves, partes de naves espaciais, etc.
  2. Dispositivos médicos: Devido a sua boa biocompatibilidade, o titânio pode ser usado para fabricar ossos artificiais, implantes dentários, etc.
  3. Equipamento químico: Devido à resistência à corrosão do titânio, pode ser usado para fabricar contentores químicos, tubos, etc.
  4. Dispositivos eletrônicos: usados como camadas condutivas ou dielétricas em circuitos integrados, sensores, etc.
  5. revestimento decorativo: usado para tratamento da superfície metal, fornecendo uma camada protetora resistente ao uso e resistente à corrosão.

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