
Hotline:0755-22277778
Tel:0755-22277778
Móvel: 13826586185 Sr. Duan Sr.
Fax:0755-22277776
E-mail duanlian@xianjinyuan.cn
A deposição de magnetro sputtering de cobalto de alta puridade Co é um processo de deposição física de vapor precisão que utiliza tecnologia de sputtering de magnetro para bombardear alvos de cobalto de alta puridade com iões de argão em um ambiente de vácuo, fazendo com que os átomos de cobalto sputterem e depositem na superfície do substrato para formar um filme fino uniforme e denso. A esputação de magnetrão tem as vantagens de velocidade de revestimento controlável, alta pureza de filmes, forte adesão e boa uniformidade, que podem obter filmes finos de cobalto com espessura precisa e controlável em substratos de grande área. Ao ajustar parâmetros de processo como potência de espulsão, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tensão de viés, o tamanho do grão, estrutura de fase cristal, estresse interno e morfologia da superfície da camada de filme de cobalto podem ser controlados, otimizando assim as propriedades magnéticas, elétricas e mecânicas da camada de filme.
Em princípio, cobalto, como importante metal de transição ferromagnética, tem alta magnetização de saturação, alta temperatura de Curie e anisotropia magnética significativa em seus filmes finos. É um material magnético chave para preparar meios de gravação magnética, sensores magnéticos, elementos de armazenamento magnético e núcleos microindutores. Os filmes finos de cobalto também têm boa atividade eletrocatalítica e estabilidade química, e têm valor de aplicação importante em campos energéticos e catalíticos como eletrolise de reações de evolução da água e oxigênio, eletrodos de supercapacitor e sensores eletroquímicos. Em tecnologia de interconexão de semicondutores, cobalto pode servir como barreira de difusão ou camada de sementes para interconexões de cobre, suprimindo a difusão de cobre na camada dielétrica e aumentando a confiabilidade de interconexões.
A vantagem fundamental deste produto é que o processo de esputação de magnetrons pode preparar filmes finos de cobalto de alta puridade, alta densidade e fortemente adesivos, satisfazendo os exigências rigorosas de precisão de dispositivos eletrônicos e magnéticos; Os parâmetros de processo podem ser ajustados, e a espessura, microestrutura e propriedades da camada de filme podem ser otimizados, conforme necessário; O substrato tem ampla adaptabilidade e pode ser colocado em várias superfícies substradas como placas de sílico, vidro, cerâmica, metais e filmes flexíveis. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode personalizar a espessura do filme de cobalto, tipo de substrato e soluções de padronização da área de revestimento de acordo com as necessidades do cliente, fornecendo serviços de processamento de revestimento de magnetrona de precisão para filmes de cobalto de alta puridade em campos como materiais magnéticos, dispositivos semicondutores, eletrodos catalíticos e componentes eletrônicos.
+86-13826586185
A deposição de magnetro de cobalto de alta puridade (Co) é um processo de deposição de filmes finos de cobalto de alta puridade em superfícies de substratos usando tecnologia de magnetro. A tecnologia de sputtering de magnetro é uma técnica avançada de deposit a ção de filmes finos que combina tecnologia de sputtering com a ação de um campo magnético para depositar uniformemente filmes finos de metais ou outros materiais em substratos. Cobalt, como material metálico importante, tem aplicações significativas em vários campos industriais devido a suas propriedades magnéticas únicas, resistência à corrosão e alta força.
O processo de magnetrón sputtering para depositar cobalto de alta puridade é aproximadamente o seguinte:
A deposição de magnetro de cobalto de alta pureza tem as seguintes vantagens em comparação com outras técnicas de deposição:

Magnetron impulsionando bismuto de alta puridade
Depósito de magnetro impulsivo de titânio Ti de alta pureza
Depósito de magnetro impulsivo de vanádio V de alta puridade
Depósito de magnetro sputtering de crômio de alta puridade Cr
Depósito de magnetro de molibdênio Mo de alta puridade
Magnetron sputtering deposition of high purity nickel Ni
Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd., © dois mil e vinte e umwww.xianjinyuan.cn. All Rights Reserved.Guangdong ICP n.o 2021051947 mapa de sitemap