Magnetron sputtering deposition of high purity nickel Ni

A deposição de magnetrão de níquel de alta puridade NI é um processo de deposição física de vapor de precisão que utiliza tecnologia de magnetrão de esposição para bombardear alvos de níquel de alta puridade com ións de argão em um ambiente de vácuo, fazendo com que os átomos de níquel de esposição e deposição na superfície do substrato para formar um filme fino uniforme e denso. A esputação de magnetrão tem as vantagens da taxa de revestimento controlável, alta pureza de filme, forte adesão e boa uniformidade. Pode obter filmes finos de níquel com espessura precisa e controlável em grandes áreas ou substratos irregulares. Ao ajustar parâmetros de processo como potência de espulsão, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tensão de viés, o tamanho do grão, estrutura de fase cristal e estresse interno da camada de filme de níquel podem ser controlados, otimizando assim a resistência à corrosão, dureza, propriedades magnéticas e elétricas da camada de filme.

Em princípio, o níquel, como metal de transição ferromagnética, tem um importante valor de aplicação em vários campos funcionais para seus finos filmes. O nikel tem uma excelente estabilidade química e pode formar uma densa camada de passivação no ar ou na mídia corrosiva, proporcionando proteção efetiva da corrosião para o substrato. Sua dureza e ductilidade tornam a camada de filme mecânicamente resistente ao uso e resistente ao impacto. O nikel é um material ferromagnético típico, e seu filme fino tem alta permeabilidade magnética e baixa coercividade. É o material magnético do núcleo para preparar a mídia de gravação magnética, sensores magnéticos e camadas de escudo magnético. No campo da eletroquímica, filmes finos de níquel mostram excelente atividade catalítica para reações de evolução de hidrogênio e eletrooxidação orgânica. Em interconexões de semicondutores, o níquel pode servir de barreira de difusão entre cobre e sílico, suprimindo a interdifusão de sílico de cobre.

A vantagem essencial deste produto é que o processo de sputtering magnetrónico pode preparar filmes finos de níquel de alta puridade, alta densidade e forte adesão, atendendo aos exigências rigorosas de resistência à corrosão, dispositivos magnéticos e interconexões eletrônicas; Os parâmetros de processo podem ser ajustados, e a espessura e microestrutura da camada de filme podem ser otimizadas, conforme necessário, para alcançar personalização multiobjetiva como resistência à corrosão, função magnética, condutividade e catalisação; O substrato tem ampla adaptabilidade e pode ser colocado em várias superfícies de substratos como metais, cerâmica, vidro, wafers de sílico e filmes de polímero. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode personalizar a espessura do filme de níquel, tipo de substrato e soluções de padronização da área de revestimento de acordo com as necessidades do cliente, fornecendo serviços de processamento de revestimento de magnetrona de precisão para filmes de níquel de alta puridade em campos como revestimentos protetores resistentes à corrosão, sensores magnéticos, eletrodos eletrôquimicos e dispositivos semicondutores.