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Depósito de magnetro de manganese de alta pureza é uma técnica que utiliza tecnologia de magnetro de espulsão para depositar átomos de manganese nas superfícies de substratos como metais, vidro, cerâmica, wafers de sílico e materiais de polímero utilizando alvos de manganese de alta pureza como fontes de espulsão em um ambiente de vácuo, formando filmes finos de manganese de alta pureza densos e uniformes. Comparado com os métodos tradicionais de tratamento da superfície, a esputação de magnetrons tem características de alta pureza de deposição, camada uniforme de filme, processo estável e adequação para substratos complexos.
Esse processo pode alcançar um controle preciso da espessura do filme, microestrutura e propriedades da superfície ajustando parâmetros como potencia de sputação, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tempo de deposição, atendendo às necessidades de desenvolvimento de diferentes filmes finos funcionais. Ao mesmo tempo, filmes finos de manganese de alta puridade têm boa adesão, uniformidade e estabilidade química, e podem ser usados como camadas funcionais, camadas de proteção ou materiais experimentais de filmes finos para dispositivos eletrônicos.
Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. fornece serviços de processamento de manganese de alta puridade de revestimento de magnetrons. Diferentes substratos, espessura de filmes e parâmetros de processo podem ser selecionados de acordo com aplicações de produtos, fornecendo soluções estáveis e confiáveis de preparação de filmes finos para campos como fabricação eletrônica, dispositivos ópticos, pesquisa e desenvolvimento de semicondutores, desenvolvimento de novos materiais e experimentos de pesquisa científica.
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A deposição de magnetro de manganês de alta pureza é uma tecnologia avançada de tratamento de superfície que utiliza o princípio de magnetro de esputação para esputar material alvo de manganês de alta pureza na superfície do substrato em um ambiente de vácuo, formando um filme fino de manganês uniforme e denso.
A tecnologia de revestimento de magnetrão é um método de depósito físico de vapor (PVD), que depende do efeito de revestimento para transferir átomos alvo para a superfície do substrato, formando assim um filme fino. No processo de esputação de magnetróns, um gás inerte (como argão) é introduzido pela primeira vez em uma câmara de vácuo alto, e então o gás é ionizado para formar um plasma através de um campo elétrico de alta tensão. Os ións de alta energia no plasma colidem com a superfície do material alvo sob a aceleração do campo elétrico, fazendo com que os átomos do material alvo sejam espalhados e depositados no substrato, formando a camada de película fina requerida por camada. A introdução do campo magnético pode aumentar o comprimento do caminho e o tempo de residência dos elétrons, melhorar a densidade e a estabilidade do plasma, aumentando assim a eficiência impulsiva e a qualidade do filme.
Mangano de alta pureza, como material alvo, tem uma série de excelentes propriedades físicas e químicas, como altos pontos de derreter e ferver, boa condutividade térmica e resistência, coeficiente de expansão moderada e alta dureza e densidade. Essas características permitem que o manganese de alta pureza mantém uma taxa estável de sputtering e qualidade uniforme do filme durante o processo de revestimento de magnetrons sputtering.
A deposição de magnetróns impulsionante da tecnologia de manganese de alta puridade atraiu muita atenção devido a suas propriedades únicas e amplos campos de aplicação. Aqui estão várias áreas principais de aplicação:
Comparado com outras tecnologias de revestimento, revestimento magnetrónico de manganese de alta pureza tem as seguintes vantagens:

Magnetron impulsionando bismuto de alta puridade
Magnetron sputtering deposition of high-purity cobalt Co
Depósito de magnetro impulsivo de titânio Ti de alta pureza
Depósito de magnetro impulsivo de vanádio V de alta puridade
Depósito de magnetro sputtering de crômio de alta puridade Cr
Depósito de magnetro de molibdênio Mo de alta puridade
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