
Hotline:0755-22277778
Tel:0755-22277778
Móvel: 13826586185 Sr. Duan Sr.
Fax:0755-22277776
E-mail duanlian@xianjinyuan.cn
A deposição de magnetro de gadolínio de alta puridade é um processo que utiliza tecnologia de magnetro de vácuo para expulsar átomos de um material alvo de gadolínio de alta puridade sob a a ção do plasma, e deposit á-los na superfície de substratos como vidro, wafers de sílico, metais, cerâmica e materiais de polímero, formando um filme de gadolínio de alta puridade uniforme e denso. Este processo pode alcançar um controle preciso da espessura, uniformidade e adesão do filme, e é adequado às necessidades de preparação de vários filmes funcionais.
No processo de esputação magnetrónica, ajustando parâmetros de processo como potencia esputadora, gás de trabalho, grau de vácuo e tempo de depósito, a microestrutura e qualidade de depósito de filmes finos de gadolínio de alta puridade podem ser otimizados, resultando em melhor densidade, puridade e estabilidade da camada de filme, satisfazendo os requisitos de coerência do desempenho de filmes finos em diferentes cenários de aplicação.
Comparado com outros métodos de preparação de filmes finos, a deposição de magnetros sputtering de gadolínio de alta pureza tem características de alta pureza de filmes, forte adesão, formação uniforme de filmes e boa repetibilidade. Pode ser amplamente utilizada em campos como materiais de armazenamento magnético, sensores magnéticos, filmes finos funcionais ópticos, dispositivos eletrônicos, experimentos de pesquisa científica e desenvolvimento de novos materiais. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode fornecer serviços personalizados para deposição de magnetrons sputtering de gadolínio de alta puridade com diferentes espessuras de filme, substratos e parâmetros de processo de acordo com as necessidades do cliente.
+86-13826586185
A deposição de magnetro sputtering de gadolínio de alta puridade é uma técnica avançada de deposição física de vapor (PVD) que utiliza o princípio de magnetron sputtering para sputtering e depositar átomos alvo de gadolínio de alta puridade na superfície do substrato em um ambiente de vácuo, formando um filme de gadolínio uniforme e denso.
O núcleo da deposição de magnetrons sputtering de gadolínio de alta puridade reside no uso do efeito sputtering e campo magnético para transferir átomos alvo de gadolínio de alta puridade para a superfície do substrato. Em uma câmara de vácuo, um gás inerte (geralmente argão) é introduzido e ionizado em um plasma através de um campo elétrico de alta tensão. Ions de argão de alta energia no plasma colidem com a superfície do material alvo de gadolínio sob aceleração de campo elétrico, resultando em espulsão de átomos alvo. Ao mesmo tempo, o efeito do campo magnético faz com que os elétrons formem um plasma de alta densidade perto da superfície do material alvo, melhorando ainda mais a eficiência impulsiva. Estes átomos de gadolínio sputtered são depois depositados no substrato para formar o filme fino desejado.
O gadolínio de alta puridade tem uma série de excelentes propriedades físicas e químicas, que fazem com que possa ter um amplo potencial de aplicação em múltiplos campos. Por exemplo, gadolínio de alta puridade tem excelentes propriedades magnéticas e ópticas, enquanto seu filme fino também mostra excelente resistência ao uso, resistência à corrosão e condutividade. Essas características fazem que filmes finos de gadolínio de alta puridade tenham valor de aplicação importante em campos como ótica, eletrônica e materiais magnéticos.
A deposição de magnetro impulsiva da tecnologia de gadolínio de alta puridade é amplamente utilizada em múltiplos campos, incluindo, mas não limitada a:
Comparado com outras tecnologias de revestimento, a deposição de magnetrons sputtering de gadolínio de alta puridade tem as seguintes vantagens:

Magnetron impulsionando bismuto de alta puridade
Magnetron sputtering deposition of high-purity cobalt Co
Depósito de magnetro impulsivo de titânio Ti de alta pureza
Depósito de magnetro impulsivo de vanádio V de alta puridade
Depósito de magnetro sputtering de crômio de alta puridade Cr
Depósito de magnetro de molibdênio Mo de alta puridade
Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd., © dois mil e vinte e umwww.xianjinyuan.cn. All Rights Reserved.Guangdong ICP n.o 2021051947 mapa de sitemap