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Captura de magnetro
Magnetron sputtering cobalt iron boron plating
  • Magnetron sputtering cobalt iron boron plating

Magnetron sputtering cobalt iron boron plating

Magnetron sputtering iron boron plating é uma técnica que utiliza a tecnologia vacuum magnetron sputtering para sputter e depositar átomos de alvos CoFeB sobre as superfícies de vidro, wafers de sílico, cerâmica, metais e outros substratos funcionais sob a a ção de plasma de gás inército, formando filmes finos uniformes e densos de liga de ferro cobalt boron. Esse processo pode efetivamente controlar a espessura, composição e uniformidade do filme fino, e é adequado para a preparação de filmes finos magnéticos de alto desempenho.

Ao ajustar parâmetros de processo como potência de espulsão, pressão de trabalho, temperatura do substrato e tempo de depósito, a microestrutura e propriedades magnéticas dos filmes finos CoFeB podem ser otimizadas para satisfazer os requisitos de diferentes dispositivos para propriedades magnéticas e estabilidade do processo. O processo de impulso magnetrónico tem características de boa repetibilidade, forte adesão e camada densa de filme, que pode ser aplicada à pesquisa científica e desenvolvimento, bem como à produção em massa.

Filmes finos de boro de ferro cobalto sputado com magnetro são amplamente utilizados em memória de acesso aleatório magnético (MRAM), sensores magnéticos, dispositivos de eletron spin, junções de túnel magnético (MTJ), materiais de gravação magnética e campos de pesquisa científica relacionados. Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. pode fornecer serviços personalizados para magnetron sputtering cobalt iron boron plating com diferentes espessuras, substratos e parâmetros de processo de acordo com as necessidades do cliente, para atender às necessidades de pesquisa e aplicação industrial de filmes finos funcionais.


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Uma técnica avançada de deposição física de vapor (PVD) que utiliza o princípio de deposição de magnetron para deposição de filmes finos de ligação ternária de ferro de cobalto sobre a superfície dos substratos.

1[UNK] Princípios técnicos

O princípio técnico de cobalto de ferro de cobalto que impulsiona magnetrons envolve principalmente os seguintes passos:

  1. Ambiente vacío: Em primeiro lugar, criar um ambiente de espulsão de vácuo para reduzir a influência das moléculas de gás no processo de espulsão.
  2. Seleção de alvo: Usar materiais alvo contendo cobalto, ferro e elementos de borão.
  3. Descarga de brilho: Aplicar um campo elétrico entre o material alvo e o substrato desencadea uma descarga de brilho de um gás inerte (como argão), produzindo partículas carregadas.
  4. Espulsão de partículas: partículas de alta energia colidem com a superfície do material alvo, fazendo com que os átomos alvo explodem da superfície.
  5. Depósito de filme fino: átomos de boro de ferro cobalto sputterados são depositados na superfície do substrato para formar um filme fino.
  6. Efeito de campo magnético: Utilizar um campo magnético para melhorar a trajetória de movimento dos elétrons, melhorar a taxa de deposição e a qualidade dos filmes finos.

2[UNK] Características materiais

Ligações ternárias de boro de ferro cobalto têm propriedades magnéticas e mecânicas únicas, como alta dureza, alta resistência ao uso e boa resposta magnética. Essas características fazem películas finas de borão de ferro cobalto amplamente usadas em vários campos.

3[UNK] Campos de Aplicação

A tecnologia de cobalto de cobalto de cobalto de cobalto de cobalto tem uma vasta gama de aplicações nos seguintes campos:

  1. Indústria eletrônica: usada para fabricar sensores magnéticos, cabeças de leitura/escrita de discos rígidos, etc.
  2. Indústria de fabricação mecânica: Como revestimento resistente ao uso, melhora a resistência ao uso das peças mecânicas.
  3. Aerospace: usado para fabricar componentes estruturais de alta temperatura e elementos magnéticos.
  4. Campo médico: usado como revestimento funcional em dispositivos médicos e implantes dentários.

4[UNK] Avanças tecnológicas

O cobalto de cobalto de cobalto que espalha magnetro tem as seguintes vantagens de processo:

  1. Uniformidade do filme: Filmes uniformes e densos podem ser obtidos em substratos com formas complexas.
  2. Composição controlável: Ao ajustar a composição do material alvo e condições estimulantes, a composição do filme pode ser exatamente controlada.
  3. Ambientalmente amigável: Conduzido em um ambiente de vácuo, sem poluição e ambientalmente amigável.
  4. Produção eficiente: alta taxa de sedimentação, adequada para produção em grande escala.

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