Magnétron pulvérisation de vanadium de haute pureté V est un procédé de traitement de dépôt physique en phase vapeur de précision utilisant la technologie de Pulvérisation magnétron, bombardant une cible de vanadium de haute pureté par des ions argon dans un environnement sous vide, de sorte que les atomes de vanadium sont pulvérisés et déposés sur la surface du substrat pour former Un film mince dense uniforme. La Pulvérisation magnétron présente les avantages d'un taux de revêtement contrôlable, d'une pureté élevée de la couche de film, d'une forte adhérence et d'une bonne uniformité, ce qui permet d'obtenir un film de vanadium d'épaisseur contrôlée avec précision sur une grande surface ou un substrat profilé. En ajustant les paramètres de processus tels que la puissance de pulvérisation, la pression d'air de fonctionnement, la température du substrat et la polarisation, la taille des grains, la structure de la phase cristalline et les contraintes internes de la couche de film de vanadium peuvent être réglées, optimisant ainsi les propriétés mécaniques, électrochimiques et optiques de la couche de film.
En principe, le vanadium, en tant que métal de transition aux propriétés polyvalentes, présente une valeur d'application unique dans le domaine de l'ingénierie de surface et des matériaux fonctionnels. Le film de vanadium a une dureté élevée avec une bonne résistance à l'usure, peut être introduit par pulvérisation réactive pour déposer de l'azote et d'autres revêtements durs tels que le Nitrure de vanadium (VN), améliorant encore les propriétés de protection de surface. Les oxydes de vanadium tels que v₂o₅ ont une structure lamellaire avec une excellente activité électrochimique et sont des matériaux candidats pour les batteries lithium - ion à couche mince avec des électrodes de supercondensateurs. En outre, les films minces d'oxyde de vanadium présentent également de bonnes caractéristiques électrochromiques, permettant une régulation réversible de la transmission optique sous tension appliquée, appliquée aux fenêtres intelligentes et aux pièces d'affichage. Dans le domaine de la catalyse, les films minces à base de vanadium ont une activité catalytique sur les réactions d'oxydation sélective.
Les principaux avantages de ce produit sont les suivants: le procédé de Pulvérisation magnétron permet de préparer des films minces de vanadium de haute pureté, haute densité et forte adhérence, répondant aux exigences strictes de la protection mécanique de précision, du stockage électrochimique de l'énergie et des dispositifs optiques fonctionnels; Les paramètres du processus peuvent être réglés, l'épaisseur de la couche de film, la microstructure et les caractéristiques fonctionnelles peuvent être optimisées à la demande, adaptées aux revêtements durs, aux matériaux d'électrode, aux scénarios d'application Multi - cibles tels que l'électrochromie; Les substrats sont adaptables et peuvent être revêtus sur une grande variété de surfaces de substrat telles que le métal, la céramique, le verre, les feuilles de silicium et les films flexibles. Advanced Academy (Shenzhen) Technology Co., Ltd peut personnaliser l'épaisseur du film de vanadium, le type de substrat et le schéma de la zone de revêtement en fonction des besoins des clients, fournir des services de traitement de revêtement par pulvérisation magnétique de précision de films de vanadium de haute pureté pour les revêtements de protection durs, les Dispositifs de stockage d'énergie en film mince, les fenêtres électrochromiques et les surfaces fonctionnelles catalytiques.
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