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Recubrimiento de pulverización de magnetrón
Recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización de magnetrón
  • Recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización de magnetrón

Recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización de magnetrón

El recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización magnética es un objetivo de tungsteno de alta pureza, que utiliza plasma para bombardear el objetivo en un ambiente de vacío, de modo que los átomos de tungsteno se pulverizan desde la superficie del objetivo y se depositan uniformemente en la superficie del sustrato, formando una película de tungsteno de alta pureza densa y uniforme. Este proceso pertenece a la tecnología de deposición física por vapor (pvd), que tiene las características de alta pureza, espesor controlable y buena adherencia de la película, y es adecuado para el campo de fabricación de precisión con altos requisitos de rendimiento de la película.

Las películas de tungsteno de alta pureza tienen excelentes propiedades de resistencia a altas temperaturas, alto punto de fusión, buena conductividad eléctrica y propiedades químicas estables, y todavía pueden mantener una estructura y propiedades estables en entornos de alta temperatura. Al mismo tiempo, el proceso de pulverización de magnetrón puede lograr un control preciso del espesor, la uniformidad y la calidad de la superficie de la película ajustando los parámetros del proceso, como la Potencia de pulverización, el vacío, el gas de trabajo y el tiempo de deposición, para satisfacer las necesidades de diseño de diferentes productos.

El recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización magnética es ampliamente utilizado en dispositivos semiconductores, materiales de electrodos, dispositivos microelectrónicos, recubrimiento óptico, dispositivos electrónicos de vacío, experimentos de investigación científica y desarrollo de películas funcionales, y también puede optimizar y personalizar el proceso de acuerdo con diferentes sustratos y escenarios de aplicación, proporcionando soluciones estables y confiables para la fabricación de películas funcionales de alto rendimiento.


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El recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización magnética es una tecnología avanzada de preparación de películas delgadas, ampliamente utilizada en la industria electrónica, la ciencia de materiales y muchos campos industriales.

I. principios técnicos

El principio del recubrimiento por pulverización magnética es aplicar un cierto voltaje (potencia) al material objetivo (que es tungsteno de alta pureza) en una cierta atmósfera de gas (como la atmósfera de gas ar), y los electrones chocan con el gas ar durante el movimiento hacia el material objetivo, lo que resulta en un fenómeno de ionización. En este momento, los iones ar bombardean la superficie del objetivo, expulsan los átomos objetivo de la superficie (átomos de tungsteno) del objetivo y los depositan en el sustrato para formar un material de película delgada.

II. características técnicas

  1. Alta pureza: la tecnología de pulverización de magnetrón puede preparar películas de tungsteno de alta pureza, que son esenciales para dispositivos electrónicos e instrumentos de precisión que requieren materiales de alta pureza.
  2. Uniformidad: a través del control preciso del campo magnético, los átomos de tungsteno pueden depositarse uniformemente en el sustrato, formando un recubrimiento uniforme y denso.
  3. Fuerte controlabilidad: se pueden ajustar varios parámetros durante el proceso de pulverización (como voltaje, corriente, intensidad del campo magnético, presión de trabajo, tiempo de pulverización, etc.) para lograr un control preciso del espesor, la composición y la microestructura de la película.
  4. Fuerte adherencia: la película salpicada tiene una buena adherencia con el sustrato, lo que mejora la estabilidad y fiabilidad de la película.
  5. Protección del medio ambiente y no contaminación: el proceso de pulverización de magnetrón se lleva a cabo en un ambiente de vacío, sin producir contaminantes como residuos líquidos, residuos y gases residuales, y cumple con los requisitos de protección del medio ambiente.

III. Áreas de aplicación

La tecnología de recubrimiento de tungsteno de alta pureza por pulverización magnética es ampliamente utilizada en muchos campos debido a sus excelentes propiedades:

  1. Industria electrónica: se utiliza para fabricar componentes electrónicos de alta resistencia al calor, alta conductividad eléctrica y alta resistencia a la corrosión, como circuitos integrados, sensores, resistencias, etc.
  2. Ciencia de los materiales: se utiliza para preparar materiales de película delgada con propiedades especiales, como películas superconductoras, películas duras, etc.
  3. Aeroespacial: se utiliza para fabricar componentes de alta temperatura, como cámaras de combustión de motores, chorros, etc., para mejorar la resistencia a altas temperaturas y la resistencia a la abrasión de los componentes.
  4. Fabricación de automóviles: se utiliza para fabricar piezas resistentes al desgaste y a la corrosión, como camisas de cilindros de motor, anillos de pistón, etc., para mejorar el rendimiento y la fiabilidad del automóvil.


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