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PI filme de alumínio, controle térmico de grau aeroespacial e materiais ópticos
Em fotos de engenharia por satélite, muitas vezes se vê que a superfície da nave espacial está coberta de um "cobertor" brilhante de ouro. A primeira reação de muitas pessoas é "ouro" - de fato, este é um componente de isolamento de várias camadas (MLI), cuja camada central é filme de PI com placa de alumínio.
O ambiente espacial impõe requisitos quase rigorosos sobre materiais. A temperatura no lado sol da nave espacial pode exceder 200 ° C, enquanto no lado sol pode cair abaixo de -200 ° C. MLI é composto por dezenas de camadas alternadas de filmes revestidos por alumínio e camadas de espaciadores, com cada camada de filmes revestidos por alumínio servindo como uma barreira eficiente de reflexão de radiação. O filme aromático PI se tornou um material de filme indispensável para a camada mais externa do MLI devido a sua alta resistência ao calor e estabilidade à radiação cósmica por cerca de 10 anos.
Pesquisas essenciais:A razão pela qual o filme revestido por alumínio PI é capaz de cumprir este papel é devido à profunda sinergia entre o substrato PI e o revestimento por alumínio no nível material - PI fornece um "esqueleto" que pode resistir ambientes extremos, enquanto alumínio fornece "funções" de reflexão óptica e condutividade.
A vantagem de desempenho do filme PI com placa de alumínio vem do fato de que tanto os materiais PI como alumínio contribuem com características únicas que não podem ser substituídas um pelo outro.
A longo prazo -269 ° C~260 ° C, a curto prazo>400 ° C; resistência à radiação (5 × 10 ⁹ taxa rápida de retenção da intensidade de radiação de elétrons de 90%); Constante dieelétrica~3,4, resistência à isolamento de 1000 trilhões Ω· cm; resistente ao uso e resistente às lágrimas.
A condutividade é segunda apenas para cobre/prata, a condutividade térmica é três vezes maior que o de ferro, e a reflexividade da superfície pode atingir 97%; UV visível reflexão quase infravermelha ≥ 92%; Gas/umidade barreira, com resistência tão baixa como 10 Ω· cm.
A preparação de camada de alumínio de filme revestido por alumínio PI adota principalmente o processo de evaporação de vácuo - em um ambiente de vácuo, fio de alumínio de alta pureza ou bloco de alumínio é evaporado em gás pelo aquecimento, e depois depositado na superfície de filme revestido por PI para formar um revestimento.
Assurecer a uniformidade do caminho livre e da depositação das moléculas de vapor de alumínio, eliminar a interferência do gás e assegurar a pureza do revestimento.
Tratamento de plasma, irradiação ultravioleta ou gravação química podem melhorar a atividade da superfície e aumentar a adesão.
Temperatura de evaporação de alumínio~1200-1400 ° C, controle preciso da velocidade para garantir revestimento uniforme e denso.
Friar, curar e testar para assegurar a estabilidade do produto.
Aplicação unilateral/dupla de alumínio:Fornecer isolamento de um lado e reflexão condutiva do outro; A reflexividade dupla-lateral é melhor, e a espessura do substrato pode cobrir de 7,5 μm a 300 μm. A espessura da camada de alumínio pode ser personalizada de acordo com as necessidades.
-269 ° C~260 ° C a longo prazo,>400 ° C a curto prazo, cobertura de alumínio de dois lados pode alcançar -250 ° C~290 ° C.
UV visível quase infravermelho ≥ 92%, unidirecional ≥ 95%, duplo-lateral é melhor.
A resistividade é tão baixa quanto 10 Ω· cm, e a resistividade superficial é ≤ 1,0 Ω/sh.
Gas barreira/umidade, umidade 90%/72 h, nenhuma mudança significativa na umidade interna.
Força de tensão ≥ 150 MPa, resistente ao uso e resistente às lágrimas, mantida após cobertura de alumínio.
5 × 10 ⁹ rad rápida taxa de retenção de intensidade de irradiação eletrônica de 90%, constante dielétrica de~3,4, resistência de isolamento de 1000 trilhões Ω· cm.
| métricas de desempenho | valor típico |
|---|---|
| Temperatura de uso a longo prazo | -269 ° C to 260 ° C |
| Tolerança à temperatura a curto prazo | acima de 400 ° C |
| Reflexão visível da luz (unilateral) | ≥92% |
| Reflexão unidirecional | ≥95% |
| resistência | ≤10[UNK]⁶Ω·cm |
| resistência à superfície | ≤1,0Ω/m2 |
| Constante dieelétrica (1MHz) | ~3.4 |
| resistência à isolamento | 1000 trilhões Ω· cm |
| Resistência à radiação (elétron rápido) | Taxa de retenção de força de 90% após 5 × 10 rad; |
Material de camada central MLI, revestimento unidirecional de alumínio PI com uma reflexividade de ≥ 95%, usado para tubos de satélite, foguete e sistema de propulsão. O Kapton revestido de alumínio é amplamente utilizado nas superfícies internas e externas da nave espacial para manter o regime térmico e a estabilidade a longo prazo do ambiente espacial, o que foi verificado.
Capa de escudo FPC, capa de fundo, proteção EMI; Filme resistente ao calor com alta tendência; Perfeito anti-estático (taxa de passagem de teste ESD ≥ 99%); Aplicações potenciais de dispositivos portables e telas flexíveis de visualização.
Reflector flexível de alta precisão, sistema de foco ligeiro, espelho de escaneamento, reflexor de cavidade laser; Materiales de eletrodo para dispositivos optoelectrónicos, com alta condutividade para transmissão eficiente de corrente; Escolha ideal para lasers e sensores ópticos.
Advanced Institute (Shenzhen) Technology Co., Ltd. foi criada em 2016 e é uma empresa nacional de alta tecnologia especializada em revestimento flexível de substratos, materiais de escudo, materiais absorventes e pastas de metal precioso. A companhia construiu independentemente linhas de produção de sputtering de magnetrons e evaporação de vácuo, usando rolo para rolar tecnologia de produção contínua.
A espessura do filme PI pode ser personalizada conforme necessário, variando de 5 μm a 300 μm.
Uma placa de alumínio unilateral ou duas placas de alumínio.
Usado comumente em 400-800 Å, pode ser personalizado de acordo com as necessidades.
A largura pode alcançar 1550 mm.
Evaporação de vacío (núcleo), esputação de magnetrons, etc.
Pré-tratamento da superfície plasmática, exato grau de vácuo e controle da taxa de evaporação.
Adaptado de 7,5 μm a 300 μm, ultra fino (5-12,5 μm) adequado para requisitos ligeiros/flexíveis, especificações espessas para cenários de alta for ça mecânica.
Um lado para reflexão/condução unilateral; Dois lados são usados para reflexão ou condutividade de dois lados.
Comumente usado em 400-800 Å, mais espessura a espessura, mais forte a reflexividade e propriedades de barreira, e pode ser personalizado de acordo com as necessidades.
Temperatura clara, irradiação e ambiente químico, revestimento de alumínio PI cobre -269 ° C~400 ° C, adequado para a vasta maioria dos ambientes extremos.
A largura pode atingir 1550 mm, comprimento 100-1500 m/rol, adequado para produção em massa de filmes de grande área de IMM e reflexão óptica.
A essência do filme revestido por alumínio PI é um material de engenharia que combina a resistência ambiental extrema do filme PI com as funções de reflexão óptica e condutividade do revestimento por alumínio. PI fornece um "esqueleto" - suporte estrutural resistente a temperaturas altas e baixas, radiação, alta isolação e alta força; O alumínio fornece "funcionalidade" - alta reflexividade, condutividade e desempenho de barreiras. A sinergia entre os dois faz com que PI filme revestido de alumínio seja uma opção material irremplaçível em aplicações de alto nível como controle térmico MLI de naves espaciais, escudo eletromagnético flexível e reflexão óptica de precisão.
Entender a lógica de engenharia por trás da combinação de PI e alumínio - por que PI em vez de PET, por que alumínio em vez de prata ou ouro, e a escolha entre placa de alumínio unilateral e placa de alumínio dualateral - é a chave para actualizar o filme de placa de alumínio PI de um "rolo de placa de alumínio" para uma "decisão de engenharia".
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