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25 μm PI filme de alumínio com espessura padrão de grau aeroespacial
Em fotos de engenharia por satélite, muitas vezes se vê que a superfície da nave espacial está coberta de um "cobertor" brilhante de ouro. A primeira reação de muitas pessoas é "ouro" - de fato, este é um componente de isolamento de várias camadas (MLI), cuja camada central é filme de PI com placa de alumínio.
MLI é composto por dezenas de camadas alternadas de filmes revestidos por alumínio e camadas de espaciadores, com cada camada de filmes revestidos por alumínio servindo como uma barreira eficiente de reflexão de radiação. Ao colocar dezenas de filmes PI revestidos por alumínio com camadas de espaciadores sob vácuo, MLI pode reduzir a condutividade térmica equivalente à ordem de 10 [UNK]W/(m ·° C). No espectro de espessura do MLI, 25 μm (aproximadamente 1 mil) é uma das espessuras de substratos mais utilizadas. No espectro de produtos de película de alumínio PI, espessuras comunmente utilizadas incluem 7,5 μm, 12,5 μm, 25 μm, 50 μm, 75 μm, 125 μm, etc., e 25 μm é a especificação que está no núcleo da "combinação de rigidez e flexibilidade". Não requer tecnologia de processamento extremamente alta como 7 μm ou 12,5 μm, nem compromete peso e flexibilidade como 50 μm ou especificações mais espessas.
Posição central:25 μm PI filme revestido por alumínio é o mais utilizado e confiado em aplicações de alto nível como controle térmico aeroespacial, escudo eletrônico e óptica de precisão, e é o consenso da indústria sobre a "espessura padrão".
No sistema de aplicação do filme poliímido, 25 μm é uma das unidades mais básicas de espessura - a vasta maioria dos fabricantes de filmes PI usam 25 μm como especificação fundamental em suas linhas padrão de produtos. A razão pela qual 25 μm se tornou o padrão da indústria é devida a suas vantagens abrangentes em múltiplas dimensões de engenharia:
Em aplicações de IMM com espessura inferior a 125 μm, 25 μm fornece capacidade térmica e suporte mecânico suficiente, pode resistir temperaturas variando de -269 °C a 260 °C e irradiação, ao mesmo tempo controlando o peso total. DuPont Kapton ® HN 25 μm (100HN) é a especificação padrão para substrato FPC e camada externa MLI.
Força suficiente para suportar evaporação de vácuo, corte e ligação, tamanho estável, alto rendimento e custo controlável.
Capacidade máxima de produção, custo ótimo, cadeia de abastecimento madura e qualidade estável.
1 milhão é a espessura de referência para a vasta maioria dos produtos de revestimento PI, que é ubiquito da camada refletiva MLI ao filme de revestimento FPC.
A preparação de camada de alumínio de 25 μm PI de filme de revestimento de alumínio adota um processo de evaporação de vácuo - em um ambiente de alto vácuo, fio de alumínio de alta pureza ou bloco de alumínio é evaporado em gás por aquecimento, e depois depositado na superfície de filme de PI para formar um revestimento. Este processo requer controle preciso de parâmetros como grau de vácuo, temperatura de evaporação e taxa de evaporação para garantir a qualidade e espessura do revestimento.
A janela de processo para evaporação de vácuo em um substrato de 25 μm é bastante madura. Comparado aos substratos ultra finos, os substratos de 25 μm têm maior for ça mecânica e capacidade térmica, e têm melhor tolerância para flutuações de temperatura e tensão durante o processo de evaporação. Portanto, a uniformidade e adesão da camada de alumínio são mais fáceis de garantir. Tecnologia do Instituto Avançado, com base em seu rolo construído independentemente para rolar a linha de produção de evaporação de vácuo, alcançou capacidade estável de abastecimento para película de cobertura de alumínio PI desde o controle da espessura de nanoscala até a produção em grande escala. PI filme revestido por alumínio pode ser dividido em dois tipos: cobertura de alumínio de um lado e cobertura de alumínio de dois lados. Uma placa de alumínio unilateral mantém a isolação de um lado do filme enquanto aumenta a condutividade e a reflexividade do outro; A cobertura de alumínio de dois lados fornece funções de condutividade e reflexão de dois lados.
Pontos-chave do controle do processo:Durante o estágio de preparação do filme PI, assegurar que a espessura, largura, planeza e outros indicadores satisfaçam os requisitos; Durante o estágio do tratamento da superfície, a limpeza, o degradação, a ativação e outros tratamentos são realizados; O refrigeração, a solidificação, os testes, etc. são realizados no estágio pós-processamento para melhorar a estabilidade do produto.
Com base num substrato PI de 25 μm, produtos de película revestidos por alumínio com diferentes espessuras de camada de alumínio podem ser preparados controlando exatamente os parâmetros do processo de evaporação. A espessura da camada de alumínio varia de 0,5 μm a 1 μm, e diferentes espessuras correspondem a diferentes focos de desempenho:
| Tipo de produto | Espessura da camada de alumínio | Densidade óptica (OD) | Características chave | Aplicações Tipicas |
|---|---|---|---|---|
| 25 0,5PI filme revestido por alumínio | ~0.5 μm | ~0.5 OD | Uma camada moderada de alumínio, boa flexibilidade e reflexividade equilibrada | Reflector MLI da nave espacial, escudo eletromagnético flexível, controle térmico universal |
| 25 0,6PI filme revestido por alumínio | ~0.6 μm | ~0.6 OD | Alta reflexividade, boa condutividade | Capa de controle térmico de alta confiabilidade, reflexão óptica de precisão, escudo EMI |
| 25 1PI filme revestido de alumínio | ~1 μm | ~1.0 OD | Capa de alumínio grossa, alta reflexividade, baixa resistência | Dispositivo de alta potência dissipação de calor, escudos EMI de alta performance, ótica de alta potência |
Nota: A espessura da camada de alumínio é o valor de referência nominal, e o desempenho específico está sujeito às especificações reais do produto. Quanto maior o valor de OD, maior a camada de alumínio, e maior a barreira e reflexividade.
Sugerição de seleção:equilibrar globalmente os requisitos de reflexividade óptica, condutividade e flexibilidade. Quanto mais fina a camada de alumínio, melhor a flexibilidade e menor o peso; Quanto mais espessa a camada de alumínio, mais forte a reflexividade e condutividade. Em aplicações de MLI, o controle fino da absorção solar (α) e da emissividade infravermelha (ε) pode ser alcançado ajustando a espessura da camada de alumínio.
-269 ° C~260 ° C a longo prazo (alguns até 280 ° C), a curto prazo>400 ° C, descomposição térmica>500 ° C.
Reflexividade ≥ 90% (aplicação IMM ≥ 95%), reflexividade da superfície de alumínio pode atingir 97%, cobertura de alumínio de duplo lado é ainda melhor.
A resistência é tão baixa quanto 10 [UNK]⁶Ω· cm, a resistência à superfície é 10[UNK]~10 ⁷ Ω/m2; bloquea gás/umidade, e não há mudança significativa na umidade a 90% humidade/72h.
Constante dieelétrica~3,4, resistência à isolamento 1000 trilhões Ω·cm; 5 × 10 ⁹ rad rápido taxa de retenção de intensidade de irradiação eletrônica de 90%, estabilidade do ambiente espacial de cerca de 10 anos.
| métricas de desempenho | valor típico |
|---|---|
| Temperatura de uso a longo prazo | -269 ° C a 260 ° C (alguns até 280 ° C) |
| Tolerança à temperatura a curto prazo | acima de 400 ° C |
| Reflexão visível da luz (unilateral) | ≥ 90% (aplicação IMM ≥ 95%) |
| resistência à superfície | 10[UNK]a 10 Ω/sq |
| resistência | Pode ser tão baixo quanto 10 Ω· cm |
| Constante dieelétrica (1MHz) | ~3.4 |
| resistência à isolamento | 1000 trilhões Ω· cm |
Capa de reflexor do núcleo MLI, reflexividade unidirecional de revestimento de alumínio PI ≥ 95%, usada para corpos satélites, corpos de foguetes e tubos do sistema de propulsão. DuPont Kapton ® O filme com placa de alumínio funciona de forma estável a -250 ° C~290 ° C e é amplamente utilizado para a camada externa do MLI.
Capa de escudo FPC, capa de fundo, proteção EMI; Os chips de alta energia têm dissipação uniforme de calor; Filme de aquecimento duradouro e suave. Usado amplamente em placas flexíveis de circuitos, sensores de tela de toque e materiais de escudo eletromagnético.
Reflector flexível de alta precisão, sistema de foco ligeiro, espelho de escaneamento, reflexor de cavidade laser; Reflector de projeção de alto nível e substrato de filme brilhante. Reflexividade de alumínio ≥ 95%, PI proporciona uma superfície suave.
Uma camada fina de alumínio (0,5 μm) foca na flexibilidade e ligeira; A espessa camada de alumínio (1 μm) foca na reflexividade e condutividade. No MLI, a absorção solar e a emissividade infravermelha podem ser controladas pela espessura da camada de alumínio.
Um lado para reflexão/condução unilateral; Dois lados são usados para reflexão ou condução de dois lados, e reflexão de dois lados do MLI tem maior eficiência.
-O intervalo padrão é de 269 ° C~260 ° C, e atenção deve ser prestada à resistência à radiação e às características de deflação de vácuo durante órbita de longo prazo.
Tecnologia do Instituto Avançado fornece soluções personalizadas para espessura de substratos (5-125 μm), espessura de camada de alumínio, largura e comprimento de rolamento.
A essência de 25 μm PI filme de alumínio é um produto de engenharia que encontra o ponto de equilíbrio óptimo em aplicações de alto nível como controle térmico aeroespacial, escudo eletrônico e óptica de precisão. Não é o mais fino ou espesso, mas é a escolha "justa" na maioria dos cenários de aplicação de alto nível: suficiente para satisfazer o desempenho de controle térmico e os requisitos de confiabilidade da nave espacial MLI, suportar os requisitos de escudo eletromagnético e flexibilidade da FPC, manter alto rendimento e custo control ável na produção em massa.
Para engenheiros, entender a lógica de engenharia atrás da espessura de 25 μm - porque é 25 em vez de 12,5 ou 50 - é mais valioso do que simplesmente lembrar de uma especificação. Nesta plataforma de espessura, personalizar produtos com diferentes propriedades ajustando a espessura da camada de alumínio (de 0,5 μm a 1 μm) é um passo chave para transformar a "resposta padrão" em soluções específicas de engenharia.
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