
Hotline:0755-22277778
Teléfono: 0755 - 2227778
Teléfono móvil: 13826586185 (párrafo)
Fax: 0755 - 22277776
Correo electrónico: duanlian@xianjinyuan.cn
+86-13826586185
磁控溅射镀高纯镥是一种先进的物理气相沉积(PVD)技术,利用磁控溅射原理,在真空环境下将高纯度的镥(Lu)靶材原子溅射并沉积到基材表面,形成一层均匀致密的镥薄膜。
磁控溅射:磁控溅射属于辉光放电范畴的技术,利用阴极溅射原理进行镀膜。在真空环境中,惰性气体(通常是氩气)被引入反应腔内。当高压电场作用于气体时,氩气分子被电离形成等离子体。等离子体中的高能氩离子在电场的加速下撞击镥靶材表面,导致靶材原子溅射出来。溅射出的镥原子随后沉积在基材上,逐渐形成所需的薄膜。
磁场的作用:通过在靶材附近施加正交电磁场,可以增加电子的有效路径长度,从而提高等离子体的密度和溅射效率。正交电磁场的引入使得电子在靶材附近做摆线运动,增加了它们与气体分子碰撞的概率,从而提高了溅射过程的效率。
镥(Lu)是一种稀土金属,在自然界中较为稀有。其特性如下:
磁控溅射镀高纯镥技术在多个领域中具有广泛应用:
Chorro de magnetrón de bismuto de alta pureza
Cobalto de alta pureza chapado por pulverización de magnetrón
Titanio de alta pureza chapado por pulverización de magnetrón
Recubrimiento de vanadio de alta pureza V por pulverización magnética
Recubrimiento de cromo de alta pureza por pulverización de magnetrón
Recubrimiento de molibdeno mo de alta pureza por pulverización de magnetrón
Academia avanzada (shenzhen) Technology co., Ltd., © 2021www.avanzado.cn. todos los derechos reservados © 2021www.xianjinyuan.cn. todos los derechos reservados