La placa de radiación térmica se basa en materiales de alta emisión, fortalece la eficiencia de la radiación infrarroja a través del tratamiento de superficie de microestructura, tiene las características de disipación de calor direccional, redistribución de energía térmica y autoadaptación ambiental, y realiza la transmisión remota de alta eficiencia del flujo de calor y el equilibrio térmico del sistema.

Proceso de producción:
- Proceso de pretratamiento del sustrato: pulir la superficie, desengrasar y activar el sustrato metálico para mejorar la adherencia del recubrimiento y eliminar las impurezas.
- Proceso de oxidación de microarco: colocar el sustrato metálico en un electrolito y aplicar un alto voltaje para generar una película de óxido duro que contenga óxido de aluminio alfa y gamma en su superficie, mejorando la tasa de radiación.
- Proceso de recubrimiento de Sol - gel: recubrimiento de sol que contiene sílice en la superficie de la película de óxido, formando una película de sol nanométrica a través del equilibrio entre gravedad y tensión superficial, optimizando las propiedades de radiación infrarroja lejana.
- Proceso de galvanoplastia pulsada: galvanoplastia de metales de alto coeficiente de radiación (como el manganeso) y sus partículas de óxido en la superficie del sustrato mediante corriente pulsada para formar una estructura de radiación térmica dispersa en forma de isla.
- Proceso de grabado láser: el láser se utiliza para grabar la microestructura en la superficie del sustrato, aumentar el área de radiación efectiva y reducir la reflectividad, y fortalecer la orientación de la radiación térmica.
Proceso de recubrimiento al vacío: evaporar metales de alta emisión (como la plata) en la superficie del sustrato en un ambiente al vacío, formando una película metálica densa y mejorando la eficiencia de radiación de toda la banda.

Escenarios de aplicación:


