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压延双面镀镍铜箔是以压延铜箔为基底材料,通过电镀或化学镀工艺在铜箔正反两面均匀沉积一层致密镍金属层的复合箔材。压延铜箔经多道轧制后晶粒呈扁平状排列,表面光洁度高,在此基础上双面镀镍可形成铜-镍-铜的三明治结构。
其工作原理基于铜的高电导率(约5.8×10⁷ S/m)提供优异的导电通路,而镍层则起到化学屏障作用,阻止铜表面氧化硫化,同时提升材料硬度与耐磨性能。镍层还可改善铜箔的可焊性,降低高温环境下的界面扩散,延长组件使用寿命。
产品优势体现在:双面镀镍层分布均匀、厚度一致性好,兼顾导电性与耐蚀性;压延基体晶粒结构致密,延展性与抗疲劳性能优于电解铜箔;适用于高频信号传输场景,表面粗糙度低可降低趋肤效应损耗;兼容精密模切与蚀刻工艺,满足柔性电路板、电磁屏蔽垫片及电池集流体的加工需求。
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压延双面镀镍铜箔是一种高性能的复合材料,通过在压延铜箔的两侧均匀镀上一层镍金属而制成。这种产品不仅保留了铜箔原有的优良导电性和延展性,还显著提升了其耐腐蚀性、耐磨性和美观性,从而满足了更多高端领域的应用需求。
表面处理压延铜箔产品特性
优异的导电性能:压延铜箔本身具有良好的导电性,双面镀镍后进一步保证了其导电性能的稳定性,适用于高频传输和精密电子设备的制造。
卓越的耐腐蚀性:镍镀层为铜箔提供了有效的防护屏障,能够抵御酸、碱、盐等腐蚀性物质的侵蚀,延长了产品的使用寿命。
良好的机械加工性和成型性:压延双面镀镍铜箔表面平整、光滑,易于进行后续的机械加工和成型处理,满足复杂工艺的需求。
高硬度与耐磨性:镍镀层提高了铜箔的表面硬度,使其具有更好的耐磨性,能够在恶劣的工作环境中保持稳定的性能。
外观美观:镀镍后的铜箔表面呈现出均匀、亮丽的金属光泽,提升了产品的整体美观度。

压延双面镀镍铜箔生产工艺
压延铜箔制备:选用高纯度的铜作为原料,经过压延工艺制成具有所需厚度和宽度的铜箔。
表面预处理:对铜箔表面进行清洗、去污、除油等处理,以确保镀层与铜箔基材之间的良好结合。
镀镍处理:采用电镀或化学镀的方法,在铜箔的两侧均匀镀上一层镍金属。电镀过程需要准确控制电流、电压、镀液成分等参数,以确保镀层的均匀性和质量。
后处理:对镀镍后的铜箔进行清洗、干燥等处理,以去除残留的化学试剂和水分,并进行必要的表面处理以提高其性能。
车间展示
高延展性镀镍铜箔应用领域概览
一、 高端柔性印刷电路板
高密度互连柔性板与刚挠结合板:用于5G毫米波天线模组、高端相机模组、军用雷达等设备的柔性电路部分。其极低的表面粗糙度减少了高频信号传输的“趋肤效应”损耗,双面镀镍提供了稳定的可焊性和对铜层的全面保护。
动态弯折部位线路:适用于翻盖手机铰链、工业机器人关节线束、车载折叠屏等需要超10万次弯折的FPC部位。压延铜箔的微观纤维结构使其耐弯折性能远优于电解铜箔,镀镍层进一步强化了抗疲劳性。
芯片级封装基板:用于CPU、GPU、FPGA等高端芯片的封装载板。极薄(如≤12μm)且尺寸稳定的压延镀镍铜箔是制作精细线路的理想选择,镍层可有效阻挡铜原子在高温下的扩散。
二、 先进电池技术
高能量密度/快充锂离子电池负极集流体:
提升快充性能:光滑的压延表面可减少充放电过程中锂的不均匀沉积,抑制锂枝晶生长,提升安全性。
增强界面稳定性:双面镀镍为硅碳等新型高容量负极材料提供了结合力更强、化学反应更稳定的基底,延缓容量衰减。
提高机械强度:作为极薄(如6μm)集流体时,其高抗拉强度可降低电池装配中的断带风险。
固态电池金属负极集流体:在固态电池体系中,镀镍层能与固态电解质形成更稳定的界面,抑制副反应,是当前研发中的重要方案。
三、 精密电子元器件
超薄电磁屏蔽与接地:用于卫星、航空航天电子设备的舱体内壁屏蔽或精密模块的接地。其材料均质、轻薄,可加工成复杂形状,提供全面屏蔽。
高性能无线充电线圈:作为手机、智能手表、新能源汽车无线充电线圈的基材。低表面粗糙度降低了交流电阻,提升传输效率;镀镍层确保长期抗氧化。
高精度传感器与振膜:用于微机电系统声学传感器、高保真扬声器音圈等。材料的优异一致性和低残余应力是保证器件性能参数一致性的关键。
四、 高频与高速应用
毫米波传输线:在77GHz汽车雷达、微波通信设备的柔性传输线中,其光滑表面是实现低插入损耗的关键。
高频连接器内导体:用于高频同轴连接器的中心导体,确保在反复插拔和震动下,接触电阻稳定。

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