纳米晶隔磁片

纳米晶隔磁片由一片铜箔和几层有机胶带叠压构成，其内部含有微小的铁磁性物质纳米晶。这种特殊的结构使得纳米晶隔磁片能够起到隔磁的作用，防止电路中存在的互相干扰现象。

主要特性

1. 高磁导率：纳米晶隔磁片具有高磁导率，能够有效地引导磁场，减少磁场的泄漏和干扰。
2. 低损耗：通过优化材料和结构，纳米晶隔磁片能够降低涡流损耗，提高充电效率。
3. 超薄设计：纳米晶隔磁片具有超薄的特点，更低厚度可达30微米，且尺寸厚度可根据客户需求进行定制。
4. 柔性材料：纳米晶隔磁片采用柔性材料制成，有效避免隔磁片碎裂漏磁，方便操作。
5. 多功能性：纳米晶隔磁片同时满足WPC（无线充电联盟）、MST（磁安全传输）与NFC（近场通信）三种功能，且不相互干扰。

应用领域

1. 电子产品：纳米晶隔磁片在电子产品中得到了广泛应用，如电视、手机、电脑等。这些产品中都有许多电路，隔磁片可以保证这些电路之间不相互干扰，从而提高了电子产品的性能和可靠性。
2. 汽车行业：在现代汽车中，纳米晶隔磁片也得到了广泛应用。这些隔磁片可以放置在汽车的电路板上，避免了电路之间的相互干扰，提高了汽车的安全性和稳定性。
3. 工业领域：工业领域中也广泛使用纳米晶隔磁片，尤其是在工厂中使用大型电子设备时。隔磁片能够减少设备之间的干扰和电流突变，保证设备的正常运转，提高了工厂的生产效率。

制造工艺与要求

纳米晶隔磁片的制造工艺包括热处理、覆膜叠片、碎磁和模切等数道程序。由于需要安装在智能设备中，对其厚度及精度会有非常严苛的要求。在制造过程中，产品的边缘会有毛刺状残留，需要引入视觉系统准确识别毛刺位置并引导激光工艺去除残留毛刺，以确保产品的整体性能。